加州山景城2021年1月8日 /美通社/ --
憑借豐富的 iPDK 庫，新思科技定制設(shè)計平臺可適于各種不同的先進和傳統(tǒng)工藝技術(shù)
新思科技（Synopsys, Inc.，納斯達克股票代碼：SNPS）近日宣布與三星晶圓廠合作開發(fā)、驗證了30 多款全新的可互操作工藝設(shè)計套件 (iPDK) ，并可支持新思科技定制設(shè)計平臺。這些 iPDK 廣泛覆蓋了三星的先進和傳統(tǒng)節(jié)點組合。新思科技定制設(shè)計平臺是速度和效率更佳卓越的設(shè)計和驗證解決方案，可使版圖速度提高 5 倍、設(shè)計收斂速度提高 2 倍，從而為使用各種三星工藝技術(shù)的客戶提供最高生產(chǎn)效率。
新思科技與三星的合作范圍包括一整套三星 iPDK組合、方法學(xué)和設(shè)計流程的開發(fā)和驗證。新思科技還與三星合作，基于新思科技定制設(shè)計平臺，利用 Custom Compiler? 設(shè)計和版圖環(huán)境，實施了一套全面的iPDK 開發(fā)和驗證解決方案。所利用的環(huán)境包括 HSPICE® 電路仿真器、FineSim® 電路仿真器、CustomSim? FastSPICE 電路仿真器、Custom WaveView? 波形顯示、StarRC?參數(shù)提取以及 IC Validator 物理驗證。
三星晶圓廠設(shè)計實現(xiàn)團隊副總裁 Jongwook Kye 表示：“我們致力于滿足客戶在技術(shù)和復(fù)雜定制設(shè)計方面對于深厚專業(yè)知識的需求。我們發(fā)現(xiàn)，市場對于新思科技定制設(shè)計平臺及其設(shè)計和驗證解決方案的需求越來越高。通過與新思科技這一全面定制設(shè)計和創(chuàng)新 EDA 解決方案的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者緊密合作，我們?yōu)樾袠I(yè)樹立了基于三星工藝技術(shù)的優(yōu)化流程和 iPDK 新標桿。對于新思科技的差異化設(shè)計和驗證流程與解決方案，三星認證其有助于提高開發(fā)者在不同節(jié)點的效率?！?nbsp;
三星和新思科技的 iPDK 庫多達30多種，涵蓋先進全環(huán)繞柵極或 FinFET 節(jié)點（包括 3nm 到 14nm）、以及65nm 到 130nm 的傳統(tǒng)節(jié)點，從而允許不同節(jié)點的開發(fā)者都可以使用高級功能，并可通過最新的新思科技定制實施解決方案套件，利用模擬和混合信號集成電路和 IP。每一款 iPDK 均包含文檔和設(shè)計基礎(chǔ)架構(gòu)元素，例如：用于不同器件的仿真模型、圖層和技術(shù)文件、用于物理和電氣設(shè)計規(guī)則驗證的設(shè)計規(guī)則檢查（DRC）和版圖與電路圖運行設(shè)置文件（LVS）、寄生參數(shù)提取設(shè)置文件、電路符號庫和參數(shù)化器件、以及用于幫助客戶達成最佳芯片的功率和性能優(yōu)化。
新思科技工程副總裁 Aveek Sarkar 表示：“如今的 IP 和模擬設(shè)計領(lǐng)域面臨的挑戰(zhàn)倍增，如復(fù)雜的版圖規(guī)則、嚴格的仿真收斂要求以及緊迫的設(shè)計時間表。為了提高生產(chǎn)效率，開發(fā)者需要一套集成簽核技術(shù)和仿真工作流程的強大定制設(shè)計平臺，而非一套點工具。通過與三星等行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者深入合作，我們正在推動方法學(xué)、參考流程和 iPDK 方面的重大創(chuàng)新。我們期待與三星繼續(xù)保持合作，共同追求卓越，為快速增長的市場和客戶生態(tài)系統(tǒng)提供進一步的技術(shù)創(chuàng)新?！?/p>
新思科技應(yīng)用工程團隊總監(jiān) Ravi Rao 于 10 月 28 日出席了三星先進晶圓廠生態(tài)系統(tǒng) (SAFE) 論壇，詳細介紹了高效設(shè)計和驗證所需的最佳方法，以及利用為三星工藝技術(shù)而優(yōu)化的豐富強大的 iPDK 支持、設(shè)計流程方法和實現(xiàn)成果。有關(guān)新思科技產(chǎn)品的更多信息，請訪問：https://www.synopsys.com/implementation-and-signoff.html.
