加利福尼亞州山景城2021年7月7日 /美通社/ --
要點:
新思科技(Synopsys, Inc., 納斯達克股票代碼:SNPS)近日宣布,其Fusion Design Platform?已支持三星晶圓廠實現(xiàn)一款先進高性能多子系統(tǒng)片上系統(tǒng)(SoC)一次性成功流片,驗證了下一代3納米(nm)環(huán)繞式柵極(GAA)工藝技術在功耗、性能和面積(PPA)方面的優(yōu)勢。此次流片成功是新思科技和三星之間廣泛合作的成果,旨在加快提供高度優(yōu)化的參考方法學,實現(xiàn)全新3D晶體管架構所固有的卓越功耗和性能。
新思科技提供的參考流程全面部署了其高度集成的Fusion Design Platform,包括業(yè)界唯一高度集成的、基于金牌簽核引擎的RTL到GDSII設計流程,以及最受業(yè)界信賴的金牌簽核產品。采用三星最新3nm GAA工藝的客戶,可在高性能計算(HPC)、5G、移動應用和人工智能 (AI) 應用領域, 為下一代設計實現(xiàn)理想PPA目標。
三星晶圓設計技術團隊副總裁Sangyun Kim表示:“三星晶圓是推動下一階段行業(yè)創(chuàng)新的核心,我們基于工藝技術的持續(xù)演進,來滿足專業(yè)和廣泛市場應用日益增長的需求。我們全新的先進3納米GAA工藝得益于我們與新思科技的廣泛合作,F(xiàn)usion Design Platform讓我們加速實現(xiàn)3納米工藝的前景,這也充分彰顯了與行業(yè)領先者合作的重要性和優(yōu)勢。"
根據(jù)摩爾定律,晶體管尺寸要進一步縮小,而GAA架構為更高的晶體管密度提供了經(jīng)過流片驗證的途徑。GAA架構改進了靜電特性,從而可提高了性能并降低了功耗,并帶來了基于納米片寬度這一工藝矢量的全新優(yōu)化機會。這種額外的自由度與成熟的電壓閾值調諧相結合,擴大了優(yōu)化解決方案的空間,從而更精細化地控制總體目標設計PPA指標的實現(xiàn)。新思科技和三星開展密切合作,加速這一變革性技術的可用性并進一步提高效能,從而在新思科技的Fusion Compiler?和IC Compiler? II中實現(xiàn)了全流程、高收斂度優(yōu)化。
不斷優(yōu)化的新思科技Fusion Design Platform為應對來自先進節(jié)點的各種挑戰(zhàn)提供了完美的解決方案,這些挑戰(zhàn)包括復雜的庫單元擺放和布局規(guī)劃規(guī)則、新的布線規(guī)則和更加明顯的工藝變化?;趩我粩?shù)據(jù)模型以及共享通用優(yōu)化架構,F(xiàn)usion Design Platform平臺可確保單點技術更新也能夠幫助設計的優(yōu)化收斂、盡可能消除系統(tǒng)裕度,以實現(xiàn)更快的收斂周期。
新思科技數(shù)字設計事業(yè)部總經(jīng)理Shankar Krishnamoorthy表示:“GAA晶體管結構是工藝技術進步的關鍵轉折點,對于延續(xù)工藝進步趨勢至關重要,為下一波超大規(guī)模創(chuàng)新提供保障。我們與三星晶圓的戰(zhàn)略合作,旨在共同提供一流的技術和解決方案,確保工藝進步趨勢的延續(xù),為更廣泛的半導體行業(yè)帶來全新機會。"
關于3納米GAA工藝的新思科技技術文檔可通過三星晶圓獲取。新思科技Fusion Design Platform中經(jīng)過驗證的關鍵產品包括:
數(shù)字設計
簽核
如需了解新思科技針對三星晶圓3納米GAA工藝技術而優(yōu)化的經(jīng)驗證流程的所有功能,請訪問www.synopsys.com/fusion 。
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新思科技(Synopsys, Inc.,納斯達克股票代碼:SNPS)是眾多創(chuàng)新型公司的Silicon to Software?(“芯片到軟件”)合作伙伴,這些公司致力于開發(fā)我們日常所依賴的電子產品和軟件應用。作為一家標普500強公司,新思科技長期以來一直是電子設計自動化(EDA)和半導體IP領域的全球領導者,并提供業(yè)界最廣泛的應用安全測試工具和服務組合。無論您是創(chuàng)建先進半導體的片上系統(tǒng)(SoC,System of Chip)設計人員,還是編寫更安全、更優(yōu)質代碼的軟件開發(fā)人員,新思科技都能夠提供您的創(chuàng)新產品所需要的解決方案。了解更多信息,請訪問www.synopsys.com。
編輯聯(lián)系人:
Camille Xu
Synopsys,Inc.
wexu@synopsys.com
Simone Souza
Synopsys, Inc.
simone@synopsys.com